• 默认
  • 编号
  • 名称
  • 发布日期
  • 实施日期
  • 销量
[国家标准] GB/T 44514-2024:微机电系统(MEMS)技术 层状MEMS材料界面黏附能四点弯曲试验方法 现行

英文名称 : Micro-electromechanical system(MEMS) technology—Four-point bending test method for interfacial adhesion energy of layered MEMS materials

发布日期 : 2024-09-29

实施日期 : 2024-09-29

内容简介 : 本文件描述了基于断裂力学概念的四点弯曲测量方法,利用作用在层状MEMS材料上的纯弯曲力矩,以最弱界面稳态开裂的临界弯曲力矩来测量界面黏附能。 本文件适用于在半导体基底上沉积薄膜层的MEMS器件。薄膜层总厚度宜小于支撑基底(通常是硅晶片)厚度的1/100。

[国家标准] GB/T 44513-2024:微机电系统(MEMS)技术 传感器用MEMS压电薄膜的环境试验方法 即将实施

英文名称 : Micro-electromechanical systems(MEMS) technology—Environmental test methods of MEMS piezoelectric thin films for sensor application

发布日期 : 2024-09-29

实施日期 : 2025-01-01

内容简介 : 本文件描述了在环境应力(温度和湿度)、机械应力和应变下,评估MEMS压电薄膜材料耐久性的试验方法,以及用于质量评估的试验条件。本文件具体描述了在温度、湿度条件和外加电压下测量被测器件耐久性的试验方法和试验条件。 本文件适用于评估MEMS压电薄膜材料的耐久性和质量,也适用于评估在硅衬底上形成的压电薄膜的正压电性能,例如用作声学传感器或悬臂式传感器的压电薄膜。 本文件不包括...

[国家标准] GB/T 44515-2024:微机电系统(MEMS)技术 MEMS压电薄膜机电转换特性测量方法 即将实施

英文名称 : Micro-electromechanical system(MEMS) technology—Measurement methods of electro-mechanical conversion characteristics of MEMS piezoelectric thin film

发布日期 : 2024-09-29

实施日期 : 2025-01-01

内容简介 : 本文件描述了用于压电式微传感器和微执行器等器件的压电薄膜机电转换特性测量方法。 本文件适用于MEMS工艺制备的压电薄膜。

[国家标准] GB/T 44517-2024:微机电系统(MEMS)技术 MEMS膜残余应力的晶圆曲率和悬臂梁挠度试验方法 即将实施

英文名称 : Micro-electromechanical systems (MEMS) technology—Wafer curvature and cantilever beam deflection test methods for determining residual stresses of MEMS films

发布日期 : 2024-09-29

实施日期 : 2025-04-01

内容简介 : 本文件描述了测量厚度范围为0.01 μm~10 μm的MEMS膜残余应力的方法,包含晶圆曲率法和悬臂梁挠度法。 本文件适用于沉积在已知杨氏模量和泊松比等力学性质衬底上的膜。

[国家标准] GB/T 44531-2024:微机电系统(MEMS)技术 基于MEMS技术的车规级压力传感器技术规范 现行

英文名称 : Micro-electromechanical systems (MEMS) technology—Technical specification of automotive grade pressure sensor based on MEMS technology

发布日期 : 2024-09-29

实施日期 : 2024-09-29

内容简介 : 本文件规定了基于MEMS技术的车规级压力传感器的分类、基本要求、技术要求和试验方法。 本文件适用于基于MEMS技术的车规级压力传感器,其他压力传感器参照执行。

[国家标准] GB/T 44529-2024:微机电系统(MEMS)技术 射频MEMS环行器和隔离器 现行

英文名称 : Micro-electromechanical system(MEMS)technology—Radio frequency MEMS circulators and isolators

发布日期 : 2024-09-29

实施日期 : 2024-09-29

内容简介 : 本文件规定了射频MEMS环行器和隔离器的术语、基本额定值和特性以及测量方法。

[国家标准] GB/T 42897-2023:微机电系统(MEMS)技术  硅基MEMS纳米厚度膜抗拉强度试验方法 现行

英文名称 : Micro-electromechanical systems(MEMS) technology—Tensile strength test method for nano-scale membranes of silicon based MEMS

发布日期 : 2023-08-06

实施日期 : 2023-12-01

内容简介 : 本文件描述了硅基MEMS加工过程中所涉及的纳米厚度膜轴向抗拉强度原位试验的要求和试验方法。本文件适用于采用微电子工艺制造的纳米厚度膜抗拉强度测试。

[国家标准] GB/T 42895-2023:微机电系统(MEMS)技术 硅基MEMS微结构弯曲强度试验方法 现行

英文名称 : Micro-electromechanical systems(MEMS)technology—Bending strength test method for microstructures of silicon based MEMS

发布日期 : 2023-08-06

实施日期 : 2023-12-01

内容简介 : 本文件描述了硅基MEMS加工所涉及的微结构弯曲强度原位试验的要求和试验方法。本文件适用于采用微电子工艺制造的微结构弯曲强度测试。

[国家标准] GB/T 42896-2023:微机电系统(MEMS)技术 硅基MEMS纳尺度结构冲击试验方法 现行

英文名称 : Micro-electromechanical systems(MEMS) technology—Impact test method for nanostructures of silicon based MEMS

发布日期 : 2023-08-06

实施日期 : 2023-12-01

内容简介 : 本文件描述了硅基MEMS制造技术中所涉及的纳尺度膜结构沿厚度方向冲击试验的要求和试验方法。本文件适用于采用微电子工艺制造的纳尺度结构在一次冲击负荷作用下的耐冲击性能的测试。

[国家标准] GB/T 42597-2023:微机电系统(MEMS)技术 陀螺仪 现行

英文名称 : Micro-electromechanical systems technology—Gyroscopes

发布日期 : 2023-05-23

实施日期 : 2023-09-01

内容简介 : 本文件规定了陀螺仪的术语和定义、额定值、性能参数及测量方法。 陀螺仪主要用于消费电子、工业和航空航天等。陀螺仪广泛采用MEMS和半导体激光器技术。

首页 下一页 末页 共13 条结果