您所在的位置:首页标准电子书国家标准H冶金H82元素半导体材料
  • 默认
  • 编号
  • 名称
  • 发布日期
  • 实施日期
  • 销量
[国家标准] GB/T 44334-2024:埋层硅外延片 即将实施

英文名称 : Silicon epitaxial wafers with buried layers

发布日期 : 2024-08-23

实施日期 : 2025-03-01

内容简介 : 本文件规定了埋层硅外延片的产品分类、技术要求、试验方法、检验规则及标志、包装、运输、贮存、随行文件和订货单内容。 本文件适用于具有埋层结构的硅外延片的生产制造、测试分析和质量评价,产品主要用于制作集成电路芯片和半导体分立器件。

[国家标准] GB/T 35307-2023:流化床法颗粒硅 现行

英文名称 : Granular polysilicon produced by fluidized bed method

发布日期 : 2023-08-06

实施日期 : 2024-03-01

内容简介 : 本文件规定了流化床法颗粒硅的牌号、技术要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存和随行文件及订货单内容。 本文件适用于以氯硅烷、硅烷气为原料,采用流化床法生产的颗粒状多晶硅(以下简称颗粒硅)。

[国家标准] GB/T 12963-2022:电子级多晶硅 即将实施

英文名称 : Electronic-grade polycrystalline silicon

发布日期 : 2022-12-30

实施日期 : 2023-07-01

内容简介 : 本文件规定了电子级多晶硅的牌号和类别、技术要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存、随行文件和订货单内容。本文件适用于以氯硅烷、硅烷制得的电子级多晶硅(以下简称“多晶硅”)。

[国家标准] GB/T 41652-2022:刻蚀机用硅电极及硅环 现行

英文名称 : Silicon electrode and silicon ring for plasma etching machine

发布日期 : 2022-07-11

实施日期 : 2023-02-01

内容简介 : 本文件规定了刻蚀机用硅电极及硅环的技术要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存和随行文件以及订货单内容。本文件适用于p<100>直拉硅单晶加工成的刻蚀机用直径200 mm~450 mm的硅电极及硅环。

[国家标准] GB/T 41325-2022:集成电路用低密度晶体原生凹坑硅单晶抛光片 现行

英文名称 : Low density crystal originated pit polished monocrystalline silicon wafers for integrated circuit

发布日期 : 2022-03-09

实施日期 : 2022-10-01

内容简介 : 本文件规定了低密度晶体原生凹坑硅单晶抛光片(以下简称Low-COP抛光片)的技术要求、试验方法、检验规则、包装、标志、运输、贮存、随行文件及订货单内容。 本文件适用于对晶体原生凹坑敏感的集成电路用直径为200 mm和300 mm、晶向、电阻率0.1 Ω·cm~100 Ω·cm的Low-COP抛光片。

[国家标准] GB/T 26069-2022:硅单晶退火片 现行

英文名称 : Annealed monocrystalline silicon wafers

发布日期 : 2022-03-09

实施日期 : 2022-10-01

内容简介 : 本文件规定了硅单晶退火片(以下简称退火片)的分类、技术要求、试验方法、检验规则、包装、标志、运输、贮存、随行文件及订货单内容。 本文件适用于通过退火工艺在硅单晶抛光片表面形成一定宽度洁净区的硅片,产品用于技术代180 nm~22 nm的集成电路。

[国家标准] GB/T 40566-2021:流化床法颗粒硅 氢含量的测定 脉冲加热惰性气体熔融红外吸收法 现行

英文名称 : Granular polysilicon produced by fluidized bed method—Determination of hydrogen—Pulse heating inert gas fusion infrared absorption method

发布日期 : 2021-10-11

实施日期 : 2022-05-01

内容简介 : 本文件描述了用脉冲加热惰性气体熔融红外吸收法测定颗粒硅中氢含量的方法。 本文件适用于流化床法颗粒硅中氢含量的测定,其他硅材料参照使用。 注: 本文件测定氢含量的范围取决于所用氢分析仪的量程,最大测定范围为氢量0.000 08 mg~2.5 mg。以质量分数(%)表示的氢分析仪的测定范围因称取样品量的不同而不同。例如,1 g样品最大测定范围的质量分数为0.000 008%~0.25%;0.15 g样...

[国家标准] GB/T 40561-2021:光伏硅材料 氧含量的测定 脉冲加热惰性气体熔融红外吸收法 现行

英文名称 : Photovoltaic silicon material—Determination of oxygen—Pulse heating inert gas fusion infrared absorption method

发布日期 : 2021-10-11

实施日期 : 2022-05-01

内容简介 : 本文件描述了用脉冲加热惰性气体熔融红外吸收法测定光伏硅材料中氧含量的方法。 本文件适用于生产多晶硅的原料硅粉、工业硅、颗粒多晶硅等光伏硅材料中氧含量的测定,测定范围为氧的质量分数0.0010%~0.40%。其他生产光伏组件的各类晶体硅材料参照使用。

[国家标准] GB/T 5238-2019:锗单晶和锗单晶片 现行

英文名称 : Monocrystalline germanium and monocrystalline germanium slices

发布日期 : 2019-06-04

实施日期 : 2020-05-01

内容简介 : 本标准规定了锗单晶和锗单晶片的要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存、质量证明书及订货单(或合同)内容。 本标准适用于制备半导体器件、激光器组件、红外光学部件用的锗单晶和锗单晶片。

[国家标准] GB/T 29055-2019:太阳能电池用多晶硅片 现行

英文名称 : Multicrystalline silicon wafers for photovoltaic solar cell

发布日期 : 2019-06-04

实施日期 : 2020-05-01

内容简介 : 本标准规定了太阳能电池用多晶硅片(以下简称硅片)的要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存、质量证明书及订货单(或合同)内容。 本标准适用于太阳能电池用铸造多晶硅片(包括类单晶硅片)。

首页 下一页 末页 共51 条结果