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本文件描述了采用夏克-哈特曼法测量光学系统波前像差的原理及方法、测量条件、设备及装置、测量步骤以及测量数据处理。
本文件适用于采用夏克-哈特曼法测量光学系统波前像差的测量,也适用于光学零件面形偏差的测量。
标准编号:GB/T 44221-2024
标准名称:光学系统波前像差的测定 夏克-哈特曼光电测量法
英文名称:Determination of wavefront aberration in optical systems—Electro-optical Shack-Hartmann method
标准状态:即将实施
发布日期:2024-07-24
实施日期:2025-02-01
出版语种:中文简体
起草单位:中国科学院苏州生物医学工程技术研究所、中国科学院光电技术研究所、中国标准化研究院、中国科学院空天信息创新研究院、中国科学院长春光学精密机械与物理研究所、苏州慧利仪器有限责任公司、中国计量科学研究院、长春奥普光电技术股份有限公司、浙江舜宇光学有限公司、成都科奥达光电技术有限公司、苏州一光仪器有限公司、舟山市质量技术监督检测研究院
发布部门:国家市场监督管理总局、国家标准化管理委员会
标准ICS号:17.180.99
中标分类号:L50
代替标准:
被代替标准: