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标准简介
适用范围：
本文件描述了一系列高度径向二阶导数法（ZDD）评价半导体晶片的近边缘几何形态的方法。本文件适用于硅抛光片、硅外延片、SOI片及其他带有表面层的圆形晶片，也用于其他半导体材料圆形晶片近边缘几何形态的评价。
读者对象：标准编号：GB/T 43894.1-2024
标准名称：半导体晶片近边缘几何形态评价 第1部分：高度径向二阶导数法(ZDD)
英文名称：Practice for determining semiconductor wafer near-edge geometry—Part 1:Measured height data array using a curvature metric(ZDD)
标准状态：现行
发布日期：2024-04-25
实施日期：2024-11-01
出版语种：中文简体
起草单位：山东有研半导体材料有限公司、浙江丽水中欣晶圆半导体科技有限公司、金瑞泓微电子(嘉兴)有限公司、中环领先半导体材料有限公司、广东天域半导体股份有限公司、鸿星科技(集团)股份有限公司
发布部门：国家市场监督管理总局、国家标准化管理委员会
标准ICS号：77.040
中标分类号：H21
代替标准：
被代替标准：
